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產(chǎn)品中心

PRODUCTS CNTER

當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心V系列-真空爐真空爐

真空爐

產(chǎn)品簡介

真空爐是用石墨/鉬/鎢/感應(yīng)作發(fā)熱元件的真空電阻爐,主要應(yīng)用于氮化鋁粉體制備等在真空或反應(yīng)氣氛中高溫?zé)Y(jié),也可以供金屬材料在高真空條件下的高溫?zé)崽幚砘蛸F金屬材料的除氣處理。

產(chǎn)品型號:
更新時(shí)間:2024-09-26
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問量:9020

產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

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詳細(xì)介紹在線留言
品牌HAOYUE/皓越升溫速度(達(dá)到最高溫)20℃//min
內(nèi)部尺寸800x800x1200mm加熱方式石墨電阻
最大功率450kkW控溫精度±1℃
最高溫度2300℃價(jià)格區(qū)間面議
儀器種類真空爐產(chǎn)地類別國產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域化工,地礦,能源,電子,冶金

設(shè)備簡介
真空爐是用石墨/鉬/鎢/感應(yīng)作發(fā)熱元件的真空爐,主要應(yīng)用于陶瓷、硬質(zhì)合金、復(fù)合材料等在真空或保護(hù)氣氛中高溫?zé)Y(jié)或退火等熱處理,也可以供金屬材料在高真空條件下的高溫?zé)崽幚砘蛸F金屬材料的除氣處理。


產(chǎn)品特點(diǎn)
采用臥式、側(cè)開門結(jié)構(gòu):裝卸物料,操作方便;
升溫快:升溫速率10℃/分鐘(≤1600℃),升溫速率5℃/分鐘(>1600℃);
設(shè)計(jì)優(yōu)化好:加熱室熱場經(jīng)熱態(tài)模擬計(jì)算,具有非常高的溫度均勻性、配置的加熱元件及隔熱層采用模塊化優(yōu)化設(shè)計(jì);
采用多溫區(qū)控制:預(yù)留多個(gè)測溫孔,以便高溫監(jiān)測使用;
溫度均勻性好:平均溫度均勻性為±5℃(5點(diǎn)測溫,恒溫區(qū)1000℃保溫1h后檢測);
冷卻速度快:可選配2bar-10bar氣體壓力下快速冷卻系統(tǒng),保證工件熱壓完畢快速冷卻,高效運(yùn)行;
穩(wěn)定性好:設(shè)備長時(shí)間運(yùn)行穩(wěn)定,故障率非常低;
安全性能好:采用HMI+PLC+PID壓力傳感控制,安全可靠;
可拓展性強(qiáng):可燒結(jié)、退火、脫脂、除氣等。

產(chǎn)品規(guī)格及技術(shù)指標(biāo)

 編號         產(chǎn)品型號有效區(qū)尺寸(mm冷態(tài)極限真空度(Pa)最高工作溫度()適用工藝
V4VHSgr-40/40/60-T400x400x6006.7X10-31300/2000/2300燒結(jié)/退火/脫脂/氫氣
V6VHSgr-60/60/90-T600x600x9006.7X10-3               1300/2000/2300燒結(jié)/退火/脫脂/氫氣
V-800VHSgr-80/80/120-T800x800x12006.7X10-3                 1300/2000/2300燒結(jié)/退火/脫脂/氫氣
V-1000VHSgr-100/100/200-T1000x1000x20006.7X10-31300/2000/2300燒結(jié)/退火/脫脂/氫氣







 一、定義
真空爐是一種在爐腔這一特定空間內(nèi),利用真空系統(tǒng)(包括真空泵、真空測量裝置和真空閥門等組件)將爐腔內(nèi)部分物質(zhì)排出,以降低爐腔內(nèi)壓強(qiáng),使其小于一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓,從而實(shí)現(xiàn)真空狀態(tài)的工業(yè)爐。
二、工作原理
真空爐的工作原理涉及一系列復(fù)雜的步驟,主要包括:
啟動真空系統(tǒng),包括機(jī)械泵、維持泵等,對爐腔進(jìn)行抽真空,降低其內(nèi)部壓強(qiáng)。
當(dāng)真空度達(dá)到特定要求時(shí),加熱系統(tǒng)開始工作,對爐腔內(nèi)的材料進(jìn)行加熱處理。
在真空環(huán)境中,材料可以避免與空氣中的氧氣等發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而實(shí)現(xiàn)無氧化、無脫碳的加熱過程。
加熱完成后,可以進(jìn)行快速冷卻或其他后續(xù)處理。
三、應(yīng)用領(lǐng)域
真空爐在多個(gè)領(lǐng)域都有廣泛應(yīng)用,包括:
電子行業(yè):在集成電路的制造過程中,真空爐用于高溫退火和低壓化學(xué)氣相沉積,以提高芯片的質(zhì)量和可靠性。
航天航空業(yè):用于制作高溫合金材料和先進(jìn)陶瓷材料,這些材料經(jīng)真空熱處理后具有更高的強(qiáng)度和抗腐蝕性。
材料科學(xué)領(lǐng)域:在金屬材料的制備過程中,真空熱處理可以消除材料中的微觀缺陷和內(nèi)部應(yīng)力,提高材料的整體性能。
四、優(yōu)缺點(diǎn)
優(yōu)點(diǎn):
無氧化、無脫碳:真空環(huán)境避免了材料與空氣中的氧氣等發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而得到無氧化、無脫碳的清潔表面。
環(huán)保:對環(huán)境無污染,不需進(jìn)行三廢處理。
高精度控溫:爐溫測定和監(jiān)控精度高,可提高產(chǎn)品質(zhì)量。
高能效:現(xiàn)代先進(jìn)的真空爐采用優(yōu)質(zhì)隔熱材料,節(jié)能效果好。
總的來說,真空爐以其高精度、高質(zhì)量和高效率的特點(diǎn),在多個(gè)領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。隨著科技的不斷發(fā)展,真空爐的技術(shù)和應(yīng)用領(lǐng)域還將進(jìn)一步拓展。

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